沒有侵權(quán)疑慮才是品牌大廠采用的關(guān)鍵因素
一般來說，規(guī)模龐大的品牌廠商如蘋果，三星，LG等公司相當(dāng)重視專利知識產(chǎn)權(quán)，因為其市場份額若遇到侵權(quán)指控，將導(dǎo)致賠償問題、產(chǎn)品禁售，甚至其下游渠道都需要將產(chǎn)品下架，那么，損失會遠大于零組件采購成本的節(jié)省。
因此，如果品牌大廠對于新技術(shù)的專利掌握度不高，產(chǎn)品面臨訴訟的風(fēng)險很高的話，品牌廠商對于產(chǎn)品的采用評估會趨于十分保守。這也間接說明了蘋果需要在中國臺灣龍?zhí)督ㄖ醚邪l(fā)產(chǎn)線的主要原因。當(dāng)然，產(chǎn)業(yè)鏈配套的零組件供應(yīng)商也需要向品牌廠商提供沒有專利侵權(quán)疑慮的產(chǎn)品，并對品牌客戶提出完全的擔(dān)保。
然而，從過往的歷史經(jīng)驗來看，在新產(chǎn)品導(dǎo)入期且未來可創(chuàng)造大量營收之際，供應(yīng)商之間在智慧財產(chǎn)權(quán)的競爭非常激烈，或發(fā)起訴訟，或開展激烈談判，甚至削價競爭。
以MiniLED背光為例，由于蘋果以及三星等品牌廠商即將大量采用，并預(yù)計在2021年進入量產(chǎn)階段，接踵而來的專利訴訟將會成為各家廠商之間防堵對手的重要手段。各家廠商自然也十分關(guān)注是否會落入專利地雷的陷阱當(dāng)中。
為了避免踩雷，業(yè)內(nèi)不少廠商早已開始筑起了知識產(chǎn)權(quán)保護城墻，聚焦產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)，全力提高綜合實力，比如晶電。
圖片來源：拍信網(wǎng)正版圖庫
晶元光電的EPISTAR專利布局網(wǎng)
目前，晶電已累積超過4400多件LED相關(guān)專利。其中，對MiniLED芯片相當(dāng)重要的覆晶結(jié)構(gòu)，晶電更掌握了大部分的技術(shù)與專利，已有相當(dāng)完整的技術(shù)與專利布局。此外，LED出光上的均勻化設(shè)計、搭配二次光學(xué)的設(shè)計在MiniLED時代的重要性將可能大增。
另值得一提的是，部分MiniLED背光顯示器為了省電的考量，也會選用MiniLED高壓芯片方案，關(guān)于高壓的設(shè)計，晶電早在2009年前后就提出這樣的概念與想法，并申請了許多基礎(chǔ)專利。
晶電在MiniLED芯片的效能有目共睹，因此才能夠接連攻入美系與韓系品牌大廠的供應(yīng)鏈當(dāng)中。至于如何面對中國大陸競爭對手的來勢洶洶，晶電總經(jīng)理范進雍認(rèn)為需要看客戶的屬性，因為不同客戶會有不同的規(guī)格要求，例如應(yīng)用在平板計算機上，耗電量或OD(optical distance)等要求十分嚴(yán)苛。尤其是由于尺寸上的微縮，MiniLED要如何確保電極高度一致與平整，維持良好的電流分散，進而通過絕緣層的設(shè)計來提升信賴性等等，各個環(huán)節(jié)都面臨不少挑戰(zhàn)，對此，晶電都已經(jīng)布局得相當(dāng)齊備。
晶電的智權(quán)法務(wù)處長郭孟君特別將LED磊晶與芯片當(dāng)中的各段關(guān)鍵制程，搭配晶電的英文字母做出了關(guān)鍵專利的梳理:
E(Epitaxy) 磊晶制程。P(PSS)圖形化藍寶石襯底。I (Insulating structure)，絕緣層，通過鍍膜等方式制作保護層，來解決缺陷與電性的問題，提升信賴性。S(Spreading-current structure)，電流分散，電極設(shè)計等。T(Transparent contact layer)，ITO透明導(dǎo)電層。A(Angle adjustment)，出光角度，通過芯片結(jié)構(gòu)設(shè)計來擴大出光角度。R(Reflecting mirror)，反射層設(shè)計。增加光的萃取度。
MiniLED顯示器產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵技術(shù)與專利梳理
與日韓廠商有長期訴訟經(jīng)驗的銨田智權(quán)認(rèn)為，MiniLED相關(guān)專利數(shù)量龐大，并從各段制程的專利梳理來給出精辟的見解。
LED磊晶與芯片制程，早期LED五大廠（Nichia, CREE, OSRAM, Philips Lumileds, Toyoda Gosei）與晶電、首爾半導(dǎo)體仍有相對多的專利布局，其在專利數(shù)量的影響力仍大，但由于專利訴訟花費龐大，除非營收市場巨大，否則不可能利用專利訴訟來捍衛(wèi)市場。MiniLED背光的市場體量龐大，是大廠將積極主張權(quán)利以鞏固自身地位的市場。
在熒光粉與封裝形式架構(gòu)上，MiniLED與以往常見技術(shù)相比有所不同，例如晶電的COB技術(shù)、韓國廠商的量子點、GE的PSF熒光粉與某些日本廠商的光均勻化等技術(shù)都并非掌握在舊有LED五大廠商手中，這部分技術(shù)有機會成為發(fā)展重點。
驅(qū)動與背光的架構(gòu)方面則是一些過去已發(fā)展，但較少被運用的技術(shù)，例如區(qū)域調(diào)光的概念很早就被提出（早于2009），并開始申請專利，但直到近一兩年（2019年～2020年）MiniLED技術(shù)漸趨成熟，才讓區(qū)域調(diào)光的MiniLED顯示器市場快速成長，來挑戰(zhàn)OLED在某些尺寸上的領(lǐng)先地位。
當(dāng)前，技術(shù)與產(chǎn)品仍處于導(dǎo)入階段，例如APPLE、Samsung、LG、TCL、ASUS、小米、Lenovo、華為等許多廠商都正在積極推出新產(chǎn)品，但到底哪些才是主流設(shè)計，尚未有定論，預(yù)計2021年年是最重要的觀察年，屆時，哪些專利將被主流技術(shù)所采用自會揭曉。
下表整理了MiniLED產(chǎn)業(yè)鏈中的重點技術(shù)，上游領(lǐng)域LED大廠的專利仍很重要，例如晶元光電、日亞化學(xué)都擁有大量的關(guān)鍵專利；中下游的技術(shù)則偏向色彩強化、勻光技術(shù)、MiniLED背光架構(gòu)與區(qū)域調(diào)光控制等技術(shù)領(lǐng)域，三星、Apple與其他的日韓臺廠商都有大規(guī)模的專利布局。
MiniLED 顯示器產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵技術(shù)與關(guān)鍵專利范例
資料來源：銨田智權(quán)/AT IP management
TrendForce認(rèn)為，即便是領(lǐng)導(dǎo)廠商也需選擇具有專利優(yōu)勢的LED元件廠商，并進行采取授權(quán)/交互授權(quán)，如此一來，才有機會回避專利侵權(quán)風(fēng)險。在市場的競爭下，未來的專利攻防將蓄勢待發(fā)。（文：LEDinside Roger）
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