7月9日，光伏設(shè)備大廠捷佳偉創(chuàng)宣布，繼4月份半導(dǎo)體碳化硅整線濕法設(shè)備訂單并完成合同簽署后，近日公司子公司創(chuàng)微微電子（常州）有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)：創(chuàng)微微電子）再次斬獲另一家半導(dǎo)體頭部企業(yè)整線濕法設(shè)備訂單，目前已完成合同簽訂工作。
據(jù)介紹，此次簽訂的合同標(biāo)的位于該客戶(hù)新產(chǎn)業(yè)園的碳化硅產(chǎn)線，交付的機(jī)臺(tái)數(shù)量多達(dá)18臺(tái)（套），為之前4月簽訂的合同交付量的2倍，可覆蓋碳化硅器件刻蝕清洗全段工藝。
其中包含創(chuàng)微微電子全新研發(fā)的Swing-type Dry干燥設(shè)備，該設(shè)備可同時(shí)兼容6/8吋產(chǎn)線，極大地提升了設(shè)備開(kāi)發(fā)效率。同時(shí)也再次鞏固了創(chuàng)微微電子6/8吋槽式及單片全自動(dòng)濕法刻蝕清洗設(shè)備替代進(jìn)口設(shè)備的能力。
source：捷佳偉創(chuàng)
據(jù)了解，官網(wǎng)資料顯示，創(chuàng)微微電子成立于2020年9月，專(zhuān)注于集成電路濕法清洗工藝設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售和服務(wù)。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設(shè)備，應(yīng)用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機(jī)電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求，滿足近90%濕法工藝步驟，包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。
據(jù)悉，2022年7月，由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設(shè)備交付至積塔半導(dǎo)體并開(kāi)始驗(yàn)證階段，運(yùn)行情況良好。與此同時(shí)，創(chuàng)微微電子成功中標(biāo)積塔半導(dǎo)體后續(xù)10余臺(tái)清洗設(shè)備訂單，制程涵蓋8英寸至12英寸。
目前，創(chuàng)微微電子已推出4-8英寸全自動(dòng)Cassette type清洗設(shè)備、8英寸全自動(dòng)Cassette-less清洗設(shè)備及4-8腔Single tool清洗設(shè)備，成功導(dǎo)入青島芯恩、成都德州儀器、積塔半導(dǎo)體等國(guó)內(nèi)頭部芯片企業(yè)并獲得重復(fù)性訂單。
值得一提的是，去年12月，蘇州市、無(wú)錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺(tái)（套）重大裝備擬認(rèn)定公示名單，創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設(shè)備成功通過(guò)公示認(rèn)定，實(shí)現(xiàn)首臺(tái)套零突破。（捷佳偉創(chuàng)、集邦化合物半導(dǎo)體整理）
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