公開(kāi)資料顯示，日本礙子成立于1919年5月5日，主要業(yè)務(wù)包括制造和銷(xiāo)售汽車(chē)尾氣凈化所需的各種工業(yè)用陶瓷產(chǎn)品、電子及電氣設(shè)備用陶瓷產(chǎn)品、特殊金屬產(chǎn)品、蓄電系統(tǒng)、絕緣子和電力相關(guān)設(shè)備等。

6英寸SiC晶圓（source：日本礙子）

除了展示8英寸SiC晶圓以外，日本礙子還將披露“在多種襯底上生長(zhǎng)低BPD密度4H-SiC單晶的新方法”。

日本礙子表示，減少SiC襯底中的BPD是提高SiC功率器件產(chǎn)量和可靠性的重要手段。公司開(kāi)發(fā)出了一種工藝，利用其陶瓷加工技術(shù)在多個(gè)襯底上生長(zhǎng)具有低BPD密度的4H-SiC晶體。今年3月，日本礙子表示，通過(guò)該工藝，其完成了在4英寸4H-SiC籽晶上同時(shí)生長(zhǎng)了9個(gè)晶體的實(shí)驗(yàn)。

除了碳化硅，日本礙子在氮化鎵（GaN）方面也有布局。

早在2012年，日本礙子便在其他研究機(jī)構(gòu)的協(xié)助下，在開(kāi)發(fā)出來(lái)的GaN晶圓上制造了LED元件，并進(jìn)行了發(fā)光性能試驗(yàn)。據(jù)介紹，日本礙子的GaN晶片采用其專(zhuān)有的液相晶體生長(zhǎng)法生產(chǎn)，整個(gè)晶圓表面的BPD密度大幅降低。

目前，日本礙子已開(kāi)發(fā)出用于激光二極管等光源器件的2英寸GaN晶圓的量產(chǎn)結(jié)構(gòu)。日本礙子現(xiàn)正開(kāi)發(fā)射頻器件和功率器件應(yīng)用，努力進(jìn)一步增大直徑并降低位錯(cuò)密度，旨在早日開(kāi)發(fā)出量產(chǎn)結(jié)構(gòu)。（集邦化合物半導(dǎo)體Morty整理）

更多SiC和GaN的市場(chǎng)資訊，請(qǐng)關(guān)注微信公眾賬號(hào)：集邦化合物半導(dǎo)體。