投資90億新臺(tái)幣!臺(tái)亞積極布局氮化鎵

作者 | 發(fā)布日期 2023 年 01 月 16 日 16:17 | 分類 氮化鎵GaN

1月13日,投資中國(guó)臺(tái)灣事務(wù)所召開“歡迎臺(tái)商回臺(tái)投資行動(dòng)方案”聯(lián)審會(huì)議,臺(tái)亞半導(dǎo)體斥資近90億臺(tái)幣擴(kuò)大投資臺(tái)灣的方案獲通過。

根據(jù)投資方案,臺(tái)亞半導(dǎo)體將在竹科廠房興建無塵室,并增設(shè)智慧化產(chǎn)線、導(dǎo)入生產(chǎn)監(jiān)控?cái)?shù)位系統(tǒng)。此舉是為了深耕氮化鎵化合物半導(dǎo)體的研發(fā)與制造,并開拓全球市場(chǎng)。預(yù)計(jì)投資完成后,將為臺(tái)灣創(chuàng)造127個(gè)高科技人才就業(yè)機(jī)會(huì)。

據(jù)悉,臺(tái)亞半導(dǎo)體擁有近40年半導(dǎo)體制造銷售與質(zhì)量管理經(jīng)驗(yàn),可以提供半導(dǎo)體整體解決方案,經(jīng)營(yíng)范圍包含半導(dǎo)體發(fā)光元件、感測(cè)元件、功率元件、磊晶材料、晶粒制造、元件封裝產(chǎn)品的生產(chǎn)制造。

此外,2022年8月11日,中國(guó)臺(tái)灣國(guó)科會(huì)還通過了鴻鎵科技中科分公司的投資案。據(jù)悉,鴻鎵科技擬投資2億新臺(tái)幣設(shè)立鴻鎵科技中科分公司,進(jìn)駐中科臺(tái)中園區(qū),主攻研制氮化鎵功率外延片及氮化鎵功率晶體等產(chǎn)品。

圖源:拍信網(wǎng)正版圖庫(kù)

事實(shí)上,近年來,中國(guó)臺(tái)灣的氮化鎵產(chǎn)業(yè)發(fā)展異常火爆。除了上述企業(yè)外,臺(tái)積電、漢磊、穩(wěn)懋、世界先進(jìn)等也是中國(guó)臺(tái)灣氮化鎵產(chǎn)業(yè)的中堅(jiān)力量。

其中,臺(tái)積電在GaN器件代工領(lǐng)域處于全球領(lǐng)先地位,其主要客戶包括意法半導(dǎo)體、納微半導(dǎo)體和GaN System等。目前,臺(tái)積電與IDM廠及IC設(shè)計(jì)業(yè)者合作開發(fā)的第一代硅基板氮化鎵技術(shù)平臺(tái),已于2021年完成并進(jìn)一步強(qiáng)化,該平臺(tái)支持多元應(yīng)用。

漢磊于2021年4月宣布投資50億新臺(tái)幣,全力發(fā)展氮化鎵和碳化硅外延和器件代工。漢磊暨嘉晶董事長(zhǎng)徐建華在2021年表示,漢磊將在未來2-3年投資0.8-1.0億美元,增加6英寸SiC產(chǎn)能達(dá)5-7倍,GaN月產(chǎn)能則倍增至2,000片。

穩(wěn)懋于2019年研發(fā)出一代0.25微米的GaN HEMT、2022年6月通過發(fā)布新的碳化硅0.12μm柵極技術(shù)上的氮化鎵擴(kuò)展了其射頻GaN技術(shù)組合。產(chǎn)能方面,2020年,穩(wěn)懋獲準(zhǔn)進(jìn)駐南科高雄園區(qū),斥資850億元新臺(tái)幣設(shè)廠,搶攻第三代半導(dǎo)體材料碳化硅與氮化鎵商機(jī)。該廠未來產(chǎn)能將超越現(xiàn)有桃園廠二倍。

世界先進(jìn)則在2022年11月宣布,其領(lǐng)先的8英寸0.35微米650V的新基底高電壓氮化鎵制程(GaN-on-QST)已于客戶端完成首批產(chǎn)品系統(tǒng)及可靠性驗(yàn)證,目前已正式進(jìn)入量產(chǎn)。據(jù)介紹,世界先進(jìn)的0.35微米650V GaN-on-QST制程能與公司既有的八英寸硅晶圓機(jī)臺(tái)設(shè)備在開發(fā)與生產(chǎn)上相互配合使用,以達(dá)最佳生產(chǎn)效率及良率。(化合物半導(dǎo)體市場(chǎng) Winter整理)

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